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玻璃的真空蒸發(fā)鍍膜原理

2023-07-28

　　真空蒸發(fā)鍍膜的物理過程
　　將膜材置于真空室內(nèi)的蒸發(fā)源中，在高真空條件下，通過蒸發(fā)源加熱使其蒸發(fā)，膜材蒸汽的原子和分子從蒸發(fā)源表面逸出后，且當(dāng)蒸氣分子的平均自由程大于真空室的線性尺寸以后，很少收到其他分子或原子的碰撞與阻礙，可直接到達(dá)被鍍的基片表面上，由于基片溫度較低，膜材蒸氣粒子凝結(jié)其上而成膜。為了提高蒸發(fā)分子與基片的附著力，對(duì)基片進(jìn)行適當(dāng)?shù)募訜峄螂x子清洗使其活化是必要的。
　　真空蒸發(fā)鍍膜從物料蒸發(fā)輸運(yùn)到沉積成膜，經(jīng)歷的物理過程為：
　　（1）采用各種能源方式轉(zhuǎn)換成熱能，加熱膜材使之蒸發(fā)或升華，成為具有一定能量（01～0.3eV）的氣態(tài)粒子（原子、分子或原子團(tuán)）；
　　（2）離開膜材表面，具有相當(dāng)運(yùn)動(dòng)速度的氣態(tài)粒子以基本上無碰撞的直線飛行輸運(yùn)到基片表面；
　　（3）到達(dá)基片表面的氣態(tài)粒子凝聚形核后生長成固相薄膜；
　?。?）組成薄膜的原子重組排列或產(chǎn)生化學(xué)鍵合。
　　為使蒸發(fā)鍍膜順利進(jìn)行，應(yīng)具備兩個(gè)條件：蒸發(fā)過程中的真空條件和鍍膜過程中的蒸發(fā)條件。

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